中芯国际的光刻机是从荷兰阿斯麦尔公司购买来的。
中芯国际是一家成立于2000年的半导体制造企业，总部位于上海张江产业园区，是中国最具规模的集成电路设计、制造、封装和测试企业之一。中芯国际14nm光刻机的来源是荷兰阿斯麦尔公司。荷兰阿斯麦尔光刻机目前几乎处于全球垄断地位，市场占有率高于90%，中芯国际的光刻机也是荷兰阿斯麦尔公司的。
中芯国际是纯商业性集成电路代工厂，提供 0.35微米到14纳米制程工艺设计和制造服务。中芯国际自创建以来，已经成长为中国大陆规模最大、技术水准最高、世界排名第四的晶片代工企业。
光刻机的种类
1、接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。
2、接近式曝光（Proximity Printing）：掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0-200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。
3、投影式曝光（Projection Printing）：在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。
以上内容参考：-中芯国际集成电路制造有限公司
中芯国际是中国的。
中芯国际集成电路制造（上海）有限公司成立于2000年12月21日，注册地位于中国（上海）自由贸易试验区张江路18号，法定代表人为高永岗。
2000年4月3日，中芯国际集成电路制造有限公司在开曼群岛法例注册成立。2004年3月18日，中芯国际集成电路制造有限公司在香港联合交易所主板上市。2020年7月16日，中芯国际集成电路制造有限公司在上海证券交易所科创板鸣锣上市。
中芯国际主要业务是根据客户本身或第三者的集成电路设计为客户制造集成电路芯片。中芯国际是纯商业性集成电路代工厂，提供0.35微米到14纳米制程工艺设计和制造服务。荣获《半导体国际》杂志颁发的“2003年度最佳半导体厂”奖项。
中芯国际的业务范围
中芯国际向全球客户提供0.35微米到45/40纳米芯片代工与技术服务。除了中芯国际高端的制造能力之外，我们为客户提供全方位的晶圆代工解决方案，以一站式服务满足客户的不同需求：从光罩制造、IP研发及后段辅助设计服务到外包服务。全面一体的晶圆代工解决方案务求能最有效缩短产品上市时间，同时最大降低成本。
公司与世界级设计服务、智能模块、标准单元库以及EDA工具提供商建立了合作伙伴关系，为客户提供广泛且高灵活度的设计支持。公司装备了大陆最先进的光掩膜生产线，技术能力跨越0.5微米到45纳米。我们的测试服务则针对逻辑电路、存储器、混合信号电路等多种芯片。
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